一、军民两用技术中心简介

   2005年6月陕西省国防科学技术工业委员会批准西安工业大学成立“陕西省薄膜技术与微光电器件军民两用技术工程中心（重点实验室）”。军民两用技术工程中心依托“陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室”，围绕薄膜技术与微光电器件制造技术领域开展基础与应用研究，形成了稳定的研究方向。先后承担了中国人民解放军总装备部、国防科工委、兵器工业集团等国家与行业的重点国防基础科学研究项目；科技部、教育部等国家部委的重点科研项目；陕西省和西安市的自然科学与应用科学研究项目。在光学薄膜技术、等离子体应用技术、微光电器件制造技术等光学先进制造技术领域形成了鲜明的研究特色和技术优势，研究成果先后获得国家科技进步二等奖、国防科技进步二等奖、三等奖、省市科技进步奖等多项奖励。

二、军民两用技术中心主任简介

    刘卫国，男，教授，博士生导师，1964年11月出生。1985年毕业于西安电子科技大学光电子技术专业，1988年获西安电子科技大学工学硕士学位，1995年获西安交通大学工学博士学位。长期从事光电子技术、电子材料的教学和研究工作， 2001年3月～2003年3月受聘于新加坡南洋理工大学担任助理教授，从事光电子材料的研究与教学工作。作为项目负责人承担过国防“973”、国防先进制造技术、国防预研基金等项目。2002年获国防科技进步三等奖，1999年获国防科技进步二等奖，1999年获教育部科技进步二等奖，1993年获国家科技进步二等奖，1996年入选国家人事部等七部委的“百千万人才工程”库，同年被破格晋升为教授，1997年被陕西省列为有突出贡献的中青年专家，1997年入选陕西省“三五”人才工程第二层次人选，被陕西省委、省政府命名为2003年度有突出贡献专家。先后在电子学报、物理学报、Applied Physics Letters、Solid State Communications 、Thin Solid Films、 Ferroelectrics、 Integrated Ferroelectrics等学术刊物上发表论文70余篇，其中被SCI收录29篇、引用80余次。现为西安电子科技大学、西北工业大学、陕西师范大学博士生导师，中国真空学会常务理事、陕西省真空学会副理事长、陕西省光电子协会副理事长、陕西省光学学会副理事长、陕西省显示技术学会副理事长。

三、研究成果

   军民两用技术中心拥有两个研究方向：薄膜与等离子体技术和微光电器件制造技术及应用。研究内容隶属于光学工程学科的光学先进制造技术领域。两个研究方向的主要研究内容如下：

1、薄膜与等离子体技术研究方向

   主要研究内容包括：类金刚石薄膜的制造与应用技术；红外光学薄膜制造技术；抗激光损伤薄膜制造技术；低损耗光学薄膜制造技术；薄膜制造过程中的（等）离子束发生与应用技术；超硬薄膜制造技术等。

    类金刚石（DLC）薄膜制造技术及应用

   从八五开始进行DLC膜的制造与应用技术研究工作，先后进行了脉冲真空电弧制造技术研究、非平衡磁控溅射技术研究、大面积DLC薄膜镀制技术研究、DLC红外减反射薄膜研究、DLC薄膜对钛镍合金的表面改性方法等研究工作。该项研究先后获得国防科技进步二等奖一项、三等奖一项；获得陕西省国防科技进步一等奖一项；申报国家发明专利多项，其中“类金刚石薄膜对钛镍合金的表面改性方法”已授权。DLC红外减反膜用于红外光学元件，在f150范围内不均匀度小于5%，在3～5μm和8～12μm波段平均透过率超过94%，峰值透过率达到97%，可作为优良的红外增透膜和保护膜，该项技术已经在多用户投入应用。

    等离子体与薄膜制造技术

   实验室长期以来致力于等离子体发生及其在薄膜制造过程中的应用技术研究，在该研究项目中，曾获国家科技进步二等奖一项，省部级奖多项；申报和授权专利多项。已经投入应用的代表性成果有：

(1)离子源和离子束辅助镀膜工艺技术。

(2)用于实现离子束辅助镀膜的关键装置——离子源。

(3)脉冲真空电弧离子镀膜机。

(4)高精度薄膜厚度控制装置。

2、微光电器件制造技术及应用研究方向

   主要研究内容包括：常温热成像材料与器件的微制造、检测、应用技术；多功能传感器集成制造技术；纳米材料与器件；低维聚合物制备与改性； MEMS与MOEMS工艺技术及其在光学元件制造中的应用。

   室温热成像系统的应用领域覆盖了国防、安全保卫、消防、车辆驾驶、警务、工业过程监测、灾害防止等广泛的领域。军民两用中心开发了具有高集成度、高性能、小型化、低成本等特点的室温热成像系统。设计了基于DSP+FPGA的图像处理电路硬件平台和系统控制以及图像处理软件；采用混合集成电路的方式，设计实现了相应的专有集成电路，提高系统可靠性与集成度，降低外界干扰；获得了开放式室温热成像系统的开发技术。在研究的基础上，申报了发明专利2项。